A光刻机

涵盖先进的7纳米和更小产品的制造技术需要使用极紫外光刻机(EUV)在小范围内打印数十亿个微小电路,全球目前只有台积电、三星和英特尔公司在使用--芯片制造技术的进一步进步,涉及到电路尺寸的进一步缩小,将使芯片制造商难以继续使用这些机器...这些被称为高NA(数字孔径),台积电将在2024年收到它们...这些活动显示,截至该公司的目标是使其新技术比目前最新的3纳米技术提高10%至15%的性能;新技术还能降低25%至30%的功耗.........

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